低溫等離子除臭設(shè)備的技術(shù)機理

 

等離子體去除惡臭是通過兩個途徑實現(xiàn)的：一個是在高能電子的瞬間是高能量作用下，打開某些有害氣體分子的化學(xué)鍵，使其直接分解成單質(zhì)原子或無害分子;另一個是在***量高能電子、離子、激發(fā)態(tài)粒子和氧自由基、氫氧自由基(自由基因帶有不成對電子而具有很強的活性)等作用下的氧化分解成無害產(chǎn)物。主要有下面幾個過程：

 

1、在高能電子作用下，強氧化性自由基O、OH、OH2的產(chǎn)生；

 

2、有機物分子受到高能電子碰撞被激發(fā)，及原子鍵斷裂形成小碎片基團和原子；

 

3、O、OH、HO2與激發(fā)原子、有機物分子、廢氣處理公司破碎的基團、其他自由基等發(fā)生一系列反應(yīng)，有機物分子***終被氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率的高低與電子能量和有機物分子結(jié)合鍵能的***小有關(guān)。

 

從除臭機理上分析，主要發(fā)生以下反應(yīng)：

 

H2O+O2、O2-、O2+——SO3+H2O

 

NH3+O2、O2-、O2+——NOx+H2O

 

H2S去除率可達91.9%，NH3去除率可達93.4%，臭氣濃度去除率可達93.6%。

 

從上述反應(yīng)來看，惡臭組分經(jīng)過處理后，轉(zhuǎn)變?yōu)镹Ox、SO2、CO2、H2O等小分子，在一定的濃度下，各種反應(yīng)的轉(zhuǎn)化率均在95%以上，而且惡臭濃度較低，因此產(chǎn)物的濃度極低，均能被周邊的***氣所接受。