低溫等離子除臭設(shè)備的具體流程介紹

 

一、概述

 

低溫等離子除臭設(shè)備是一種利用等離子體技術(shù)進行氣體凈化和臭味消除的先進環(huán)保裝置。該設(shè)備在常溫下通過高能電子激發(fā)氣體分子，產(chǎn)生等離子體，其中富含的高能電子、自由基、激發(fā)態(tài)分子等活性粒子與惡臭物質(zhì)發(fā)生化學反應，將其分解為無害的小分子物質(zhì)，從而達到除臭和凈化空氣的目的。

 

二、技術(shù)原理

 

**1. 氣體引入：**污染氣體通過風機被引入到低溫等離子除臭設(shè)備中。

 

**2. 電場激發(fā)：**在設(shè)備內(nèi)部，氣體流經(jīng)***制的高壓電場，電場中的高能電子與氣體分子碰撞，使其激發(fā)、電離，形成等離子體。

 

**3. 化學反應：**等離子體中的高能電子、自由基（如·OH、·O、·HO2）等活性粒子與惡臭氣體分子發(fā)生一系列復雜的氧化還原反應，將惡臭氣體分子降解為無害的小分子物質(zhì)，如CO2、H2O等。

 

**4. 凈化排出：**經(jīng)過等離子體處理后的氣體已經(jīng)去除了惡臭成分，再通過設(shè)備的排氣系統(tǒng)排放到***氣中。

 三、具體流程

 

**1. 預處理：**對進入設(shè)備的污染氣體進行初步處理，如去除***顆粒物、調(diào)節(jié)溫濕度等，以確保后續(xù)處理效果。

 

**2. 等離子體反應：**預處理后的氣體進入等離子體反應區(qū)，在高壓電場的作用下產(chǎn)生等離子體，并與惡臭氣體分子發(fā)生化學反應。

 

**3. 后處理：**等離子體反應后的氣體可能含有少量的未完全反應的產(chǎn)物或副產(chǎn)物，需要進一步處理以確保排放標準。后處理通常包括吸附、過濾等步驟。

 

**4. 排放：**經(jīng)過后處理的氣體達到排放標準后，通過排氣系統(tǒng)安全排放到***氣中。

 

 四、***勢***點

 

**1. 高效性：**低溫等離子除臭設(shè)備能夠高效去除多種惡臭氣體，處理效率高達95%以上。

 

**2. 廣譜性：**適用于各種惡臭氣體的處理，包括但不限于硫化氫、氨氣、甲硫醇等。

 

**3. 安全性：**設(shè)備在常溫常壓下運行，無明火、無爆炸危險，安全可靠。

 

**4. 節(jié)能環(huán)保：**無需添加任何化學物質(zhì)，無二次污染，且能耗低。

 

 五、應用***域

 

低溫等離子除臭設(shè)備廣泛應用于污水處理廠、垃圾處理站、養(yǎng)殖場、化工廠、制藥廠等產(chǎn)生惡臭氣體的場所，以及醫(yī)院、學校、酒店等對空氣質(zhì)量要求較高的場所。